苏大维格（股票代码：300331），曾因为“光刻机概念股”而备受热捧，但在10月9日开盘后却遭遇了超过13%的大跌。

在上个月中旬，苏大维格在互动平台上表示“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售”，这一言论引发了股价的大涨。

然而，10月8日晚间，苏大维格收到了中国证监会的立案告知书，因涉嫌信息披露违法违规，证监会决定对该公司展开调查。

当晚，苏大维格回复深交所关注函时表示，公司生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。

苏大维格还表示，在回复互动易问题时，公司证券部门直接使用了“光刻机”、“龙头芯片公司”等表述，可能引起了部分投资者的误会和误解，导致股价出现较大波动。对此，苏大维格对投资者表示歉意。

实际上，公司生产的光刻设备并非集成电路领域所使用的掩模光刻机，而是直写光刻机。掩模光刻机需要使用掩模板，在运行过程中所需，包括接触式/接近式光刻机和投影式光刻机（如DUV和EUV）等。而直写光刻机则不需要掩模板，可以包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备（LDI）等。

在半导体和平板显示制造领域，通常采用“直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。

为了澄清销售情况，苏大维格披露的回复函显示，公司生产的激光直写光刻设备目前主要用于自用，对外销售金额较小。到2022年，公司预计对外销售收入约为770.93万元，到2023年上半年，预计对外销售收入约为2177.27万元。公司的客户主要分为两类：一类是高校和科研院所，其采购公司光刻设备用于相关领域的研究；另一类客户是除高校和科研院所外的其他客户，主要包括各类企业客户，他们购买公司光刻设备主要用于部分产品的研发和小批量试制，以及微纳光学材料和光通讯器件的制作等领域。

同时，苏大维格也承认，公司的激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度和稳定性等关键技术参数方面与同行业龙头公司存在较大差距。

此外，苏大维格强调纳米压印技术与集成电路应用无直接关系。之前在互动平台上，苏大维格提到，佳能等国际厂商计划通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备，以实现更低成本的芯片量产。公司表示关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域的潜力，并积极布局。

针对这一问题，深交所在关注函中要求苏大维格详细说明纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况，并充分提示相关风险。

苏大维格在回复函中显示，公司目前主要的收入来自于各类微纳光学产品，通过“激光直写